光學(xué)玻璃加工行業(yè)，一般需要經(jīng)過以下幾個大的工序段：CNC + 拋光 + 鋼化 + 絲印 + 鍍膜。氧化鈰拋光粉具有使用壽命長、拋光時間短、拋光精度高、切削力強(qiáng)等優(yōu)勢，氧化鈰拋光是比較常見的加工方式。拋光粉的清洗，也是光學(xué)玻璃清洗的基本需求。高硼硅玻璃拋光后清洗質(zhì)量的好壞，會直接影響后續(xù)加工的良率，高硼硅玻璃清洗劑在精密光學(xué)鏡頭、手機(jī)蓋板玻璃、ITO導(dǎo)電玻璃、電子陶瓷、醫(yī)療器械、電子器件、顯示面板等領(lǐng)域應(yīng)用較多。

高硼硅玻璃清洗劑的特點優(yōu)勢：

1、不含磷，無刺激氣味，易生物降解

2、快速清洗，拋光粉快速自動脫落

3、較好的分散性、滲透能力和粉塵螯合能力

4、清洗后潔凈度好，玻璃表面無殘留、不發(fā)蒙

5、堿性中溫超聲波狀態(tài)下對玻璃無腐蝕損傷

6、高濃度配比，添加量少，使用成本低

高硼硅玻璃清洗劑使用方法可采用超聲波清洗、浸泡清洗或噴淋清洗。在操作過程中，根據(jù)污染程度調(diào)整清洗劑濃度，注意控制清洗時間、溫度以及水質(zhì)。清洗完畢后，建議使用非離子水進(jìn)行徹底漂洗，并吹風(fēng)機(jī)或熱氣流烘干。

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