希爾鉻退鍍劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成,常用于光學(xué)玻璃與金屬真空鉻鍍層的脫除返工處理,具有快速滲透、和超強(qiáng)溶解鉻鍍層的能力,無殘留,易漂洗,低氣味,使用簡單,不傷底材等特點。
應(yīng)用領(lǐng)域:適用于各種金屬材質(zhì)、藍(lán)寶石、陶瓷、手機(jī)面板,光學(xué)鏡頭,光學(xué)零部件等真空鍍鉻工件的返工處理。
139-2572-1791
√ 退鍍速度快,無殘留
√ 不傷基材,無劃傷風(fēng)險
√ 槽液使用壽命長,可循環(huán)使用
√ 低氣味,易漂洗,安全無毒,不可燃
√ 符合voc、cod、歐盟RoHS指標(biāo)要求
退鍍快 劃傷少 使用壽命長 安全不可燃
外觀 | 橙紅色液體 | 安全 | 不可燃 |
pH | 3-5 | 環(huán)保 | 符合歐盟RoHS要求 |
恒溫浸泡清洗
按原液使用,加熱至45-80度,恒溫浸泡5-30分鐘。對于鍍層較厚工件,延長浸泡時間直至徹底清洗干凈。
1、定期檢查槽液溫度、液位,及時補(bǔ)加原液。
2、按規(guī)定時間定期更換槽液。