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半導(dǎo)體功率器件清洗劑

希爾半導(dǎo)體功率器件清洗劑是去除半導(dǎo)體表面的氧化皮、助焊劑、焊錫膏、金屬離子以及光刻膠等污染物的水基清洗劑，其中的活性物質(zhì)可以吸附在芯片表面，使其長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)，并在表面形成保護(hù)層，防止顆粒的二次吸附，清洗速度快，無殘留，不會對銅、鋁、鎳、金、錫、硅及芯片PI層等產(chǎn)生腐蝕破壞。

應(yīng)用領(lǐng)域：用于各種半導(dǎo)體（碳化硅、氮化鎵）、IGBT模塊、功率器件、芯片、電子元器件、銅排線和治具噴淋、超聲波的清洗。

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產(chǎn)品特點(diǎn)Product characteristics

√ 清洗氧化物與焊錫膏效果好，潔凈度高

√ 對工件表面無腐蝕，不變色，無斑白點(diǎn)

√ 原液濃度高，槽液壽命長，可循環(huán)使用

√ 低泡型，清洗效果好，無殘留現(xiàn)象

√ 水基環(huán)保，無毒，無閃點(diǎn)，不燃不爆

√ 符合voc指標(biāo)要求和歐盟RoHS認(rèn)證

清洗速度快不腐蝕易漂洗水基無味不傷材

理化指標(biāo)Physical and chemical indicators

外觀	無色透明液體	密度	0.90-1.01g/L
pH	7.0-9.5（工作液）	類型	水基型(VOC<100g/L)
環(huán)保	無磷，不含鹵素，符合歐盟RoHS要求

工藝流程Process flow

工藝流程

注意事項Precautions for use

使用方式

噴淋清洗/超聲波清洗
使用方法

原液使用，加熱至50-70度，噴淋清洗5-10分鐘，或超聲波清洗1-5分鐘。對于重污垢工件，延長清洗時間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。
工作液維護(hù)

1、定期檢查槽液溫度、液位，及時補(bǔ)水及相應(yīng)比例補(bǔ)加原液。

2、按規(guī)定時間定期更換槽液。

熱品推薦 / Hot product

: 金屬清洗劑

希爾金屬清洗劑是采用新配方工藝精制，具有良好的剝離、溶解有色金屬表面氧化物和油脂蠟垢的能力，且使用方便安全，對大部份金屬材料和飾面都沒有影響，具有良好的緩蝕性，適用各種金屬制品除各種油污、拋光蠟。應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛適用各種金屬、不銹鋼、鋁材合金、銅材、鐵材、鋅鎂鈦合金等工件表面清洗機(jī)加工油污油脂、拋光蠟與氧化物，效果較好。

: 光學(xué)玻璃清洗劑

希爾光學(xué)玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑，對于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強(qiáng)化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗，主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點(diǎn)、霉點(diǎn)、指紋等各種臟污，以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等，清洗良率達(dá)99%以上，潔凈度高，不發(fā)蒙。應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、光學(xué)零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導(dǎo)電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍(lán)寶石、鏡片等。

: 手機(jī)玻璃清洗劑

希爾手機(jī)玻璃清洗劑對于玻璃蝕刻、精雕后、強(qiáng)化前后、鋼化后、絲印后、平磨后、鍍膜前后等工序均可清洗，主要是清洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、灰塵、霉點(diǎn)、指紋，以及研磨粉以及玻璃粉等臟污，清洗良率高達(dá)99%以上，潔凈能力強(qiáng)、成本低，是一款環(huán)保、水基型玻璃清洗劑產(chǎn)品！應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、手機(jī)玻璃蓋板、LCD、光學(xué)鏡片、藍(lán)寶石、ITO玻璃、鏡頭、鏡片、攝像頭，顯示器、液晶玻璃等產(chǎn)品。

: 氧化鈰拋光粉清洗劑

希爾氧化鈰拋光粉清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對玻璃拋光后殘留的氧化鈰拋光粉特別研制。對玻璃表面殘留的氧化鈰顆粒污垢有非常好的的螯合分散和清洗效果。具有對玻璃表面無腐蝕，劃痕少，無毒無污染，操作安全等優(yōu)點(diǎn)。廣泛用于硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽類型的光學(xué)玻璃清洗。應(yīng)用領(lǐng)域：專用于光學(xué)玻璃的拋光研磨后的清洗。